In un laboratorio ad alta sicurezza di Shenzhen, la Cina avrebbe completato un prototipo funzionante di macchina EUV (litografia agli ultravioletti estremi), tecnologia considerata indispensabile per produrre i chip più avanzati al mondo, utilizzati nell’AI, nei sistemi di difesa e negli smartphone di ultima generazione.
È ciò che emerge da un’inchiesta esclusiva di Reuters, che ha ricostruito per la prima volta i retroscena di un progetto condotto sotto stretto riserbo e con il coinvolgimento di ex ingegneri dell’olandese ASML, l’azienda leader mondiale nel settore.
Le macchine EUV per produrre Chip AI
Secondo le fonti citate dall’agenzia, una squadra di tecnici con esperienza nei sistemi EUV ha portato avanti un’intensa attività di reverse engineering sulle macchine originali, superando i controlli alle esportazioni imposti dagli Stati Uniti e dai loro alleati. Il risultato è una macchina che, pur non essendo ancora in grado di produrre chip operativi, è capace di generare effettivamente luce EUV, un traguardo tecnico significativo considerato tra i più difficili da raggiungere.
Il progetto, descritto dalle stesse fonti come una sorta di “Progetto Manhattan” cinese per i semiconduttori, riflette l’ambizione di Pechino di rompere la dipendenza dalle tecnologie occidentali in un segmento industriale oggi al centro delle tensioni geopolitiche. Il governo avrebbe fissato l’obiettivo di ottenere chip prodotti con tecnologia propria entro il 2028, anche se analisti esterni ritengono più realistico un traguardo verso il 2030.
Al cuore di questa iniziativa c’è un ruolo di primo piano per Huawei, che coordina una rete di istituti di ricerca e imprese pubbliche e private, impiegando migliaia di ingegneri in un ambiente altamente compartimentato e protetto da misure di segretezza estreme.
Reuters riferisce inoltre di assunzioni mirate di tecnici cinesi all’estero con incentivi rilevanti, mentre alcuni ex dipendenti ASML avrebbero operato sotto identità fittizie per mantenere la riservatezza sul progetto.
Per la Cina un cambio di passo
Nonostante i progressi, restano sfide tecnologiche di primo piano, in particolare nella replicazione dei sofisticati sistemi ottici prodotti in Occidente, che finora hanno resistito ai tentativi di duplicazione. La costruzione di un EUV completamente competitivo richiede ancora anni di lavoro e investimenti mirati.
Tuttavia, il semplice fatto che una macchina EUV sia stata costruita e generi luce EUV segna un cambiamento di passo nella corsa globale ai semiconduttori, con potenziali implicazioni profonde sugli equilibri industriali e geopolitici legati allo sviluppo dell’AI e delle tecnologie avanzate.
