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Parole chiave: Hitachi, Centrica, Giovanni Nebiolo

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Italia
Firenze Tecnologia e MICC: incontro su moda ad alta risoluzione e nuovi sistemi di immagini digitali

Firenze Tecnologia e il MICC (Centro di Eccellenza per la Comunicazione e l’Integrazione dei Media) organizzano il seminario "Nuove Tecnologie delle Immagini Digitali per il Settore della Moda".


L’incontro si tiene martedì 22 aprile 2008, alle 16:30, nella sede del Laboratorio Prove, Via dei Cadolingi 6, int.6-7, Scandicci, Firenze. La partecipazione al seminario è gratuita.

Nel seminario, grazie alla partecipazione di alcuni esperti, sono presentate tecnologie e metodologie per la acquisizione digitale ad altissima risoluzione, per la taratura del colore, la protezione dei diritti relativi alle immagini con tecnologie di digital watermarking, tecnologie di presentazione e modellazione tridimensionale.

Interverranno al seminario: Giovanni Nebiolo (Firenze Tecnologia), Paolo De Rocco e Marco Cappellini (Centrica), Takayuki Morioka (Hitachi- DIS Project) e Vito Cappellini (MICC- Università di Firenze).
 



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(21 aprile 2008 notizia 185398)

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